Intel CPU芯片工厂已有多台EUV生产设备 数量实际上

过去几年之中Intel在晶片瓷上被认为落后于摩托罗拉、三星，一个不可或缺原因就是没有及时跟进EUV瓷，让两家输掉一早试作了7nm、5nm等瓷，不过Intel这一年来变化很大，也对EUV光刻瓷上心了，加速推进新瓷试作。

Anandtech网站的架构编者𝐶𝑢𝑡𝑟𝑒𝑠𝑠𝐶𝑢𝑡𝑟𝑒𝑠𝑠日和邀请到访了Intel在俄勒冈州的D1X厂，他声称在那里认出了一些EUV生产的设备，不过就其有多少就不用感叹了，显然这是Intel的商业机密，不用对外透露。

1月底，Intel达成协议了一批EUV的设备进厂，不过当时准时安装的是欧洲爱尔兰的Fab 34DRAM厂，那是一台重结晶显影的设备（lithography resist track），将与EUV极紫外扫描仪同台，首先为硅DRAM悬上精细的涂层，然后转到EUV扫描仪，进行时登出，接着DRAM回到光刻的设备，再进行时一系列的高精细光显影、搬运操作者。

爱尔兰的Fab 34DRAM厂愿景不会试作Intel 4瓷，也就是之前的7nm瓷，这是Intel首个使用EUV光刻机的瓷，2023年的14代酷睿Metor Lake处理器不会替补该瓷。

不过Intel在EUV光刻机上的雄心壮志很大，重点不会放在新一代EUV光刻机上，已经一早定购了NA 0.55高数值孔径EUV光刻机，据感叹成本高达3亿美元，英磅19亿元。

相比目前NA 0.33的EUV光刻机，Intel购买的通用型光刻机可以试作更先进的CPU瓷，愿景的20A、18A瓷都不会用上，快2025年试作。

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