Intel EUV极紫外光刻设备进厂：赛跑“4nm”工艺

坐落大不列颠莱克斯利普(Leixlip)、投资70亿美元的Intel Fab 34装配厂迎来关键关头：摄像机光刻冲洗电子设备(lithography resist track)微微进入厂，这也是该厂的第摄像机巨型闪存制造工具。

该电子设备来自Intel俄勒冈州厂，搭乘飞机跨过，来到了大不列颠。

这台电子设备将与EUV极紫外扫描仪搭档，首先为硅晶片悬上精密的涂层，然后进入EUV扫描仪，来进行曝光，接着晶片回到光刻电子设备，如此一来来进行一系列的高精密光冲洗、清理操作。

一座典型的装配厂构成大约1200台先进制造电子设备，以外价值都在百元美元级别。

Intel Fab 34装配厂2019年动工基础设施，原先2023年年初投产，将会把Intel在大不列颠的装配能力翻一番，并为未来装配Intel 4传统工艺铺平道路——严格来说是Intel 7nm，但是正式重新命名，认为它可以媲美产业4nm准确度。

Alder Lake 12代酷睿、Raptor Lake 13代酷睿都是Intel 7传统工艺(10nm ESF)，Meteor Lake 14代酷睿和G-Granite Rapids的下下代至强都将用上Intel 4传统工艺。

正式暗示，新传统工艺研发进展好不容易，闪存检验已经完美通过，SRAM、逻辑短剧、建模短剧都符合规范，往年第二季度还早早启动了Meteor Lake计算短剧模块的流片。

Intel现阶段早就全球基础设施、升级装配厂，除了大不列颠还有加拿大本土的科罗拉多州、内华达州、俄勒冈州，以及马来西亚，投资上百亿美元，迅速还会无限期在欧洲、加拿大的愈来愈多装配厂基础设施原先。